Комплекс машин для прецизионного напыления металлических или диэлектрических пленок для создания микрочипов, а также для травления и создания заданной топологии. Возможность магнетронного и термического нанесения тонких пленок металлов и диэлектриков. Ионное и плазменное травление для получения необходимой топологии.
Характеристики: 1. Базовое давление в камере 5х10-6 торр, достигаемое за 20 минут; 2. Ручная загрузка и выгрузка пластин; 3. Установка имеет возможность работы ионного источника с газами Ar, O2; 4. Установка имеет возможность удаленного управления углом наклона подложкодержателя в диапазоне ± 90 °С; 5. Скорость вращения подложки 10 об/мин; 6. Скорость травления по Cu: 20 нм/мин, по Si: 50 нм/мин; 7. Неоднородность травления по толщине 2% в зоне луча и 5% в области; Комплектность:
Объемная камера из нержавеющей стали 14" с магнитным дверным контактом MDC 8" и окном 5".
Фронтальная дверь 8" c окном для наблюдения 5"
Турбомолекулярный насос Pfeiffer 1200 Turbo 1240 л/с с безмасляным насосом Anest Iwata ISP-500C обеспечивают базовое давление откачки диапазона 10-8 торр
Блок ионного источника Kauffman KDS 75 c двойной нитью: установлен на правой стороне камеры.
Ионный источник: диаметр пучка 8 см, ионный ток 250мА, 1200эВ, с акселератором 300 Ма, 600 В, с нейтрализатором и пневматическим затвором.
Столик 6" для подложек: бескислородная медь высокой проводимости + нержавеющая сталь, с водяным охлаждением, вращение и привод от вакуумного шагового двигателя, оптимизирована для пластин 4", может наклоняться относительно ионного луча на +/- 90 °С, управление посредством ПК.
Заслонка столика
Расходомеры 50 sccm M100B
Установка для глубокого травления кремния
Oxford PlasmaPro 100
Content Oriented Web
Make great presentations, longreads, and landing pages, as well as photo stories, blogs, lookbooks, and all other kinds of content oriented projects.