ЦТМ

Фотолитография

Полный цикл оптической литографии с минимальным размером получаемых структур до 0,6 мкм.
Оборудование предназначено для создания рельефа в кремниевых, стеклянных или кварцевых пластинах диаметром 100 мм и включает все этапы:
  • нанесение фоторезиста различными методиками
  • прямая лазерная литография топологии
  • совмещение и экспонирование через фотошаблоны
  • жидкостное травление
  • сращивание пластин для создания микрочипов
  • резка пластин на чипы
PICO MASTER 100
Система литографии лазерным лучом
Sawatec iSpray-300
Установка спреевого нанесения резиста
Sawatec Hotplate HP-200-Z
Печь для обработки пластин в парах HMDS
Sawatec Developer SMD-200-E
Установка проявления фоторезиста
Sawatec SM-200/HP-200 duo
Комбинированная установка для нанесения и сушки фоторезиста
Sawatec SM-200
Установка нанесения фоторезиста спреем
Logitech PM5
Станок для прецизионной притирки и полировки пластин
Diener Electronic ATTO
Плазменная установка низкого давления
Accretech SS10
Полуавтоматическая установка дисковой резки пластин
ionLine Plus Raith
Установка ионно-лучевой литографии
F&S BONDTEC Bonder 53xx
Установка микросварки
Neutronix-Quintel NXQ 4000
Установка совмещения и экспонирования