Литография

Полный цикл оптической литографии с минимальным размером получаемых структур до 0,6 мкм.
Оборудование предназначено для создания рельефа в кремниевых, стеклянных или кварцевых пластинах диаметром 100 мм и включает все этапы:

• нанесение фоторезиста различными методиками
• прямая лазерная литография топологии
• совмещение и экспонирование через фотошаблоны
• жидкостное травление
• сращивание пластин для создания микрочипов
• резка пластин на чипы